鹤岗商标注册-苹果专利曝光iMac全新设计：J形下弯-标哩哩商标注册

原标题：苹果专利曝光iMac全新设计：J形下弯 据外媒报道，苹果日前曝光的专利文件显示，iMac将会采用新的外观设计，类似于大写字母“J”。

专利文件显示，iMac的显示屏通过弧形下弯的玻璃材质过渡到底部，底部平坦处不仅可以容纳键盘输入区域，还可以添加小显示屏。

由于弯曲部分不足以支撑，苹果在背部设计了底座，且底座内可以容纳外围接口和电源等硬件。

苹果在专利中提出，弯曲部分可以调整角度，甚至完全收起以便于运输等。

另外，弯曲结构中还设计了楔形插槽，用于埋线等。

不过专利归专利，苹果iMac什么时候才能用上这个技术现在还不能确定。

(责任编辑：DF120)。